加拿大進(jìn)口Plasmionique離子濺射鍍膜儀

核心技術(shù)配置

1.沉積性能

沉積室：直徑8英寸，高度14英寸，支持基板尺寸最大4英寸。

真空系統(tǒng)：緊湊型渦輪泵（80-90 L/s），基礎(chǔ)壓力低至10??–10?? Torr，確保無(wú)污染的清潔環(huán)境。

2.電源與磁控管

可編程500W濺射電源或RF發(fā)生器（120-300W），配備自動(dòng)匹配網(wǎng)絡(luò)。

支持水冷磁控管（尺寸1"、2"、3"），最多可安裝3個(gè)1英寸磁控管，支持平衡/非平衡磁控配置。

3.過(guò)程控制

石英晶體微天平：實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)薄膜厚度與沉積速率。

基板加熱：旋轉(zhuǎn)式基板架，溫度可調(diào)至300°C，PID精準(zhǔn)控制。

氣體控制：集成2條工藝氣體線路，自動(dòng)化排氣系統(tǒng)。

自動(dòng)化與智能化

1.軟件控制：通過(guò)PLASMICON控制軟件實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)化工藝（支持配方編程）。

2.實(shí)時(shí)監(jiān)控：10英寸觸摸屏界面，實(shí)時(shí)數(shù)據(jù)采集與可視化操作。

3.擴(kuò)展功能：可選配光學(xué)光譜儀，用于過(guò)程監(jiān)控與質(zhì)量控制。

設(shè)計(jì)優(yōu)勢(shì)

1.緊湊尺寸：整機(jī)約32"（寬）×22"（深）×24"（高），適合實(shí)驗(yàn)室或小型生產(chǎn)環(huán)境。

2.模塊化設(shè)計(jì)：靈活配置磁控管、電源及傳感器，適應(yīng)多樣化的研究或生產(chǎn)需求。

應(yīng)用場(chǎng)景

1.科研領(lǐng)域：材料表面處理、納米薄膜沉積、光學(xué)/電子器件研發(fā)。

2.工業(yè)用途：半導(dǎo)體、光伏、醫(yī)療設(shè)備涂層等高性能薄膜制備。

加拿大進(jìn)口Plasmionique離子濺射鍍膜儀多功能、高精度的濺射沉積解決方案，適用于對(duì)薄膜質(zhì)量與工藝控制要求苛刻的場(chǎng)景。