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當(dāng)前位置：首頁 > 產(chǎn)品中心 > 掩膜曝光光刻機 > Mask Aligner系列 > MEMA-800光刻機Mask Aligner
簡要描述：MYCRO*荷蘭光刻機（光刻機Mask Aligner），是的光刻系統(tǒng)，為半導(dǎo)體制造和科研領(lǐng)域提供品質(zhì)優(yōu)良穩(wěn)定的全波段紫外光刻機系統(tǒng)，廣泛的應(yīng)用于半導(dǎo)體光刻工藝制程、微機電MEMS、二極管芯片、發(fā)光二極體（LED）芯片制造、生物器件、納米科技、顯示面板LCD、光電器件、奈米壓印以及電子封裝等諸多領(lǐng)域。
產(chǎn)品型號：MEMA-800 廠商性質(zhì)：代理商更新時間：2025-07-02訪 問 量：2361產(chǎn)品分類
詳細介紹
光刻機分為半自動和全自動兩大系列。MEMA-800是研發(fā)中心和大學(xué)中的微機開發(fā)。操縱器，壓力傳感器，加速度傳感器，功率設(shè)備等。倒裝芯片/BGA/CSP的暴露。暴露于光學(xué)/高速通信組件中。
二、技術(shù)參數(shù)：
1、目標(biāo)分離：15?75毫米；
2、總放大倍率：100倍；
3、觀察照明器：紅色LED（λ= 633 nm）；
4、X，Y平臺移動范圍：±5毫米；
5、θ調(diào)整：±5°
6、主體電源和水銀燈：交流100V 50 / 60Hz 15A
7、真空源：低于21.3 Kpa（大氣壓為-80 Kpa）
8、鏡片：積分鏡
9、汞燈：250W超高壓蒸汽汞燈
10、有效接觸面積：大φ100毫米
11、強度分布：±5％以下
12、照度：20 mW / cm 2 （405納米）
13、曝光時間控制：數(shù)字計時器和旋轉(zhuǎn)螺線管
14、汞燈照明裝置：交流110V
三、產(chǎn)品特點：
經(jīng)濟，緊湊和高級性能
在視場中查看兩個對準(zhǔn)標(biāo)記的融合圖像。
用于曝光的積分鏡。
LED照明器
產(chǎn)品咨詢
聯(lián)系人：鄧經(jīng)理
地址：洪山區(qū)珞獅南路147號未來城A棟
郵箱：sales@mycroinc.com
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