一、PL400/PL600納米壓印機技術特點：

? 全晶圓壓印 - PL600適用于6英寸晶圓處理, PL400適用于4英寸晶圓處理

? 低于10納米分辨率，產率高達99％

? 一步自動釋放功能，可防止分離過程中模具/基材損壞，使壓印產量增大

? 支持各種類型的硬模和軟模

? 可變模具和基材尺寸，靈活方便

? 可編程PLC，通過自定義參數進行過程控制，帶觸摸屏用戶界面

? 對準功能選項

? 多種工藝，適用于各種應用光學器件，顯示器，數據存儲，生物醫學器件，半導體IC，化學合成和*材料等

? 專有的紫外線固化納米壓印抗蝕劑對硬度或厚度沒有限制，并且與傳統的光刻工藝兼容

本納米壓印是一個獨立的納米壓印機包括自動釋放™功能的納米壓印模塊和自動壓印控制器。程序控制，用戶可自由設置工藝參數，晶圓與模板由真空卡盤固定，兼容傳統的UV固化壓印膠工藝，可以快速的實現真空環境下的壓印。可以處理各種不同形狀、滿足直徑100mm的模版和基片處理。只需要手動裝入和取出模板和基片，其余的操作都是自動化進行，同時附帶軟件還提供了詳細的參數設置。

二、PL400/PL600納米壓印機技術參數

1.1模版尺寸：4/6英寸，兼容1~4/6英寸圓片和不規則的材料；

*1.2基底尺寸：4/6英寸，兼容1~4/6英寸圓片和不規則的材料；

1.3壓印模式：硬壓印和軟壓印；

*1.4壓印分辨率：小于10nm；

1.5壓印壓力：14 psi -17psi，可編程；

1.6壓印區域：最大4英寸的基底材料；

1.7模版：內置自動分離模版功能；

1.8對準精度：1μm，取決于工藝；

1.9程序控制：PLC程序控制，壓印時間和壓力可編程；

1.10對準和移動范圍：X，Y和Z+/- 5mm，?:+/- 5°;

*1.11曝光系統：LED紫外線曝光，波長395nm，覆蓋9“x 9"區域，強度可編程，最大≥50mW/cm2，曝光時間也可編程；

三、納米壓印機的應用

納米壓印技術憑借其高分辨率和低成本特性，廣泛應用于以下領域：

1.半導體與集成電路

制造高密度存儲芯片（如NAND閃存、MRAM）。

光子集成電路（如硅光器件、光柵耦合器）。

優勢：替代傳統EUV光刻，降低優良制程成本。

2.光學器件與顯示技術

增強現實（AR）衍射光波導。

液晶顯示（LCD）導光板微結構。

超表面透鏡（Metalens）的納米天線陣列。

優勢：實現復雜光學結構的低成本批量生產。

3.生物醫學與傳感器

微流控芯片（Lab-on-a-Chip）的納米通道。

表面增強拉曼散射（SERS）基底。

生物分子檢測的納米孔陣列。

優勢：高精度結構提升檢測靈敏度與特異性。

4.新能源與柔性電子

鈣鈦礦太陽能電池的納米陷光結構。

柔性電子（如可穿戴傳感器）的導電圖案。

透明導電膜（如銀納米線網格）。

優勢：兼容柔性基材（PET、PI），支持卷對卷（R2R）工藝。

5.防偽與裝飾

包裝的全息防偽標簽。

奢侈品表面的納米紋理裝飾（如抗指紋、啞光效果）。

優勢：微結構可定制化，難以復制。