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MicroChem光刻膠光刻前的清洗工藝是如何做到的：為了獲得更好的光刻效果，在進行光刻膠旋涂之前，需要對基材進行清洗。常用的清洗方法是利用濃硫酸及雙氧水的混合溶液浸泡，隨后用去離子水清洗并用氮氣吹干。除此之外還可以利用反應(yīng)離子刻蝕或等離子表面清洗儀清洗。MicroChem光刻膠光刻工藝：將MicroChem光刻膠組分旋涂在基材上，旋涂厚度幾至幾百微米。涂覆晶片經(jīng)過前烘并冷卻至室溫。在烘干過程中，優(yōu)先選擇加熱均勻且溫度控制的加熱板；不能使用鼓風(fēng)干燥箱，防止因為光刻膠表面優(yōu)先固...

光學(xué)膜厚儀膜厚儀、測厚儀、干涉儀、厚度測量儀FR的工具基于白光反射光譜（Reports），準確同步的厚度測量及薄膜的折射率一個廣泛的多樣化的應(yīng)用范圍廣泛的光電特性的工具和整體解決方案，如：半導(dǎo)體、有機電子、聚合物、涂料和涂料、光伏、生物傳感、化學(xué)傳感…

Dake壓片機常見故障都有哪些，又要怎么解決這些問題將顆粒或粉狀物料置于?？變?nèi)由沖頭壓制成片劑，Dake壓片機是固體制劑中的常用設(shè)備。Dake壓片機的使用注意事項：1、機器設(shè)備上的防護罩、安全蓋等的裝置不要拆除,使用時應(yīng)裝妥。2、沖模需經(jīng)嚴格探傷試驗和外形檢查,要無裂縫、變形、缺邊,硬度適宜和尺碼準確的,如不合格的切勿使用,以免機器遭受嚴重損壞。3、顆粒粉子不宜超過100目,因它會使上沖飛粉多,下沖漏料多,影響機件,容易磨損、粘沖和原料損耗。4、不干燥的原料不要使用,因它會使...

光學(xué)膜厚儀膜厚儀、測厚儀、干涉儀、厚度測量儀FR的工具基于白光反射光譜（Reports），準確同步的厚度測量及薄膜的折射率一個廣泛的多樣化的應(yīng)用范圍廣泛的光電特性的工具和整體解決方案，如：半導(dǎo)體、有機電子、聚合物、涂料和涂料、光伏、生物傳感、化學(xué)傳感……

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光學(xué)膜厚儀膜厚儀、測厚儀、干涉儀、厚度測量儀FR的工具基于白光反射光譜（Reports），準確同步的厚度測量及薄膜的折射率一個廣泛的多樣化的應(yīng)用范圍廣泛的光電特性的工具和整體解決方案，如：半導(dǎo)體、有機電子、聚合物、涂料和涂料、光伏、生物傳感、化學(xué)傳感……