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納米制造使用光刻工藝(193nm，EUV，EBL等)涉及廣泛的材料、技術和相關的處理步驟，以便生產明確的納米結構。光刻膠的光刻對比曲線是工藝優化常用的參數之一。光致抗蝕劑的對比度曲線是顯影后剩余的抗蝕劑膜厚度，作為對數繪制的曝光劑量的函數[1]。測量方法:在本篇應用案例中，使用EBPG-5000+電子束工具以100千電子伏的速度在不同的曝光劑量下對負性抗蝕劑進行曝光，生成100×100μm正方形的陣列，每個正方形對應不同的曝光劑量。在顯影步驟之后，使用FR-μ探針顯微光譜儀工...

等離子處理中哪種頻率效果好？中頻？射頻？微波？KHz，中頻產生等離子體能量大，主要是物理作用；MHz，射頻產生等離子體能量和密度居中,為物理和化學作用；GHz，微波產生等離子體能量小，密度高，主要為化學作用；40kHz、13.56MHz和2.45GHz等離子體激發頻率運用：激發頻率為40kHz的等離子體即超聲等離子體清洗是以物理反應為主的等離子體清洗，也叫做濺射腐蝕（SPE）或離子銑（IM），其優點在于本身不發生化學反應，清潔表面不會留下任何的氧化物，可以保持被清洗物的化學純...

本篇介紹了使用I101鈣鈦礦前體油墨的鈣鈦礦太陽能電池制備過程，該油墨用于底部ITO/PEDOT：PSS陽極和頂部PC70BM/Ca/Al陰極。ITO/PEDOT：PSS/CH3NH3PbI3-xClx/PC70BM/Ca/Al詳細步驟如下：1.基板清潔：清潔預圖案化的ITO基板。將基板在1％的高溫（70°C）中超聲處理5分鐘。在沸騰的去離子（DI）水中漂洗底物兩次（轉儲沖洗），然后在IPA中進一步超聲處理5分鐘，后在沸騰的DI水中漂洗兩次。使用壓縮氮氣干燥基材。2.PEDO...

UV固化工藝是光化學反應前沿的應用，通過一定強度的紫外光照射,瞬間固化油墨、涂料、膠等相關化學品。隨著科技的發展，UV固化所涉及領域也更加廣泛，應用于汽車、電子、通訊、航空航天、金屬、玻璃及塑料等制品的制造上。憑籍其對產品品質的提高和優良的環境表現，以每年10%以上的速度替代傳統固化工藝。UV照射可硬化材料中的光起始劑吸收紫外線光譜(波長200-400nm)中的某些特殊波長的光而產生斷鍵情形,這些斷鍵的物質再去撞擊單體和預聚合體而產生連鎖架橋反應,瞬間將此材料從液態變成固態。...

涂膠顯影機具有可編程閥,它可以使單注射器試劑滴膠按照蝕刻,顯影和清洗應用的要求重復進行,如沖洗（通常是去離子水或溶劑）,然后干燥（通常是氮氣）等后的處理步驟。采用此序貫閥門技術的晶圓片和管道在*干燥的環境中開通和關閉處理過程。隔離和獨立的給水器可處在靜態的位置還可以蓋內調節。還有可選擇的動態線性或徑向滴膠的特性。涂膠顯影機加熱位置都是貼在熱板上，透過熱傳導的方式對晶圓進行加熱，每個熱板同時只有一個加熱溫度。若遇到溫度改變也即晶圓需要經過不同的工藝溫度的處理時，就會需要時間來做...

納米壓印機是一款專為實驗室開發的即插即用，纖細輕巧的納米壓印工具，其能低成本且高效地實現高精度的納米熱壓工藝。它兼具熱壓印和紫外壓印兩種功能，而且可以快速的實現真空環境下的壓印。這個系統可以方便的根據不同需要進行配置，閑置時也易于收藏。它可以處理各種不同形狀、格式以及直達100mm（4英寸）的模板和基片。該系統只需要手動裝入和取出模板和基片，其余的操作都是自動化進行，同時附帶軟件還提供了詳細的參數設置，讓客戶對壓印過程實行全名的操控。我們這項前沿納米壓印技術優勢在于：可快速復...

鍵合機工具支持所有常見的晶圓鍵合工藝，如陽極，玻璃料，焊料，共晶，瞬態液相和直接鍵合。易于操作的鍵合室和工具設計，讓用戶能快速，輕松地重新裝配不同的晶圓尺寸和工藝，轉換時間小于5分鐘。這種多功能性非常適合大學，研發機構或小批量生產。鍵合室的基本設計在量產工具上是相同的，鍵合程序很容易轉移，這樣可以輕松擴大生產量。閉環壓力控制系統，減少人為影響；界面輸入、調節方便；獨立設置，使用靈活。DSP鎖相，超聲波輸出穩定。*工藝設計，*的軟基片適應能力和細絲控制能力。電驅動方式，無需壓縮...