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WABASH平板硫化機主要用于硫化平型膠帶（如輸送帶、傳動帶，簡稱平帶），它具有熱板單位面積壓力大，設備操作可靠和維修量少等優點。平板硫化機的主要功能是提供硫化所需的壓力和溫度。壓力由液壓系統通過液壓缸產生，溫度由加熱介質（通常為蒸汽）所提供。平帶平板硫化機按機架的結構形式主要可分為柱式平帶平板硫化機和框式平帶平板硫化機兩類；按工作層數可有單層和雙層之分：按液壓系統工作介質則可有油壓和水壓之分。WABASH平板硫化機操作方法：1、按模具尺寸和規定的單位壓力調整壓力表，嚴禁超壓...

MC應用｜Harrick等離子清洗機PDMS鍵合小能手！HarrickPlasma→PDMSBonding，時長00:14應用領域聚（二甲基硅氧烷）（PDMS）是基于硅酮的有機聚合物，因其低成本和多功能性而廣泛用于專業和學術研究實驗室。PDMS是惰性的，透明的，可通過軟光刻輕松定制，該技術用于成型PDMS并將納米級特征和微通道壓印到其表面上。Harrick等離子清洗機可去除有機污染物并激活PDMS表面，以用于與玻璃，PDMS或其他經過類似處理的表面進行粘合。PDMS鍵合于微流...

科研圈｜超逼真20張動圖，秒懂四大電鏡原理（SEM,TEM,AFM,STM）！材料的顯微分析能獲得材料的組織結構，揭示材料基本性質和基本規律，在材料測試技術中占重要的一環。對各種顯微分析設備諸如SEM、TEM、AFM、STM等，各位材料屆的小伙伴一定不會陌生。最近小編發現一些電鏡動畫，被驚艷到，原來枯燥無味的電鏡可以變得這么生動，閑言少敘，下面就和大家一起來分享。掃描電子顯微鏡（SEM）掃描電鏡成像是利用細聚焦高能電子束在樣件表面激發各種物理信號，如二次電子、背散射電子等，通...

光刻膠的顯影和光刻工藝今天小編要跟大家簡要介紹關于光刻膠的顯影過程和光刻工藝處理的一些相關內容。光刻工藝可用五個指標來衡量其效果：分辨率、靈敏度、套刻對準精度、缺陷率和硅片加工過程處理問題，其中有3個指標，分辨率、靈敏度和缺陷率是與涂膠顯影的工藝精度有重要。顯影過程是將曝光后的光刻膠中與紫外光發生化學反應的部分除去或保留下來的過程。顯影的主要過程如下：對準曝光→曝光后烘→顯影→堅膜→顯影檢測。1對準曝光（AlignmentａndExposure）對準曝光階段是光刻工藝的重要階...

目前，MEMS發展迅速，已廣泛應用于醫療、軍事、航空、航天、汽車工業等領域。MEMS種類繁多，如MEMS傳感器、MEMS執行器和光MEMS等，而各種薄膜在MEMS制造加工工藝中充當了重要角色。根據MEMS加工工藝需要，往往需要制作各種不同厚度的薄膜，薄膜厚度對工藝、后成型的器件性質有至關重要的影響。隨著薄膜厚度的變化其性質往往也出現不同，精確測量各種功能薄膜的厚度值在MEMS制造加工領域有非常重要的意義。下面小編來介紹幾種測量薄膜厚度的方法研究和對比：01接觸式表面輪廓儀利用...

單模波導樹脂ZPU12,13-RI和LFR系列光活性UV可固化樹脂基于全氟丙烯酸酯。它們設計用于光波導器件和光通信中使用的光學薄膜的應用。這些涂料樹脂具有優異的特性，例如低光學損失，低雙折射和優異的環境穩定性。通過與標準聚合物溶液共混以滿足各種波導結構中的使用需求，可以輕松實現對折射率的精確和連續控制。為了獲得最佳的薄膜質量，應在紫外線照射期間建議使用氮氣環境。產品規格型號-ExguideLFR-RI系列-ExguideZPU12,13-RI系列特征-UV固化型-低光損耗-環...

背景技術在各類光學有關的檢測中經常需要在兩個光學器件之間添加折射率匹配液以消除結合處界面對光學性能帶來的影響。以光通信領域為例，近年我國寬帶接入和光纖到戶的發展使平面光波導芯片產品的需求量猛增。平面光波導就是在晶圓平面上利用不同物質的光折射率制造出光波傳導通路，并完成過去由多個單一光器件才能實現的特定光通信功能的技術。測試平面光波導芯片時，會將芯片與其他光學器件如光纖、光纖陣列等連接起來，為了避免光在這些連接點位置出現強度、偏振態變化等光學性質的變化，通常會在這些連接點之間點...